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王鑫炜
宣布时间::2026-05-26

基本情形

王鑫炜,,,男,,,1994年2月生,,,群众,,,讲师,,,工学博士,,,江西吉安人,,,现任壹号娱乐APP电子与信息工程学院专任西席。 。

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联系方式

? 地点::广东省江门市蓬江区东成村22号 壹号娱乐APP 情形与化学工程学院

? 邮编::529020

? 邮箱::845471670@qq.com

? 电话::13189433363

事情履历

? 2026年1月至今,,,壹号娱乐APP,,,电子与信息工程学院,,,硕士生导师

教育及学习履历

? 2021年8月-2025年12月,,,厦门大学电子科学与手艺学院,,,博士

? 2018年8月-2021年3月,,,天津工业大学电子与信息工程学院,,,硕士

? 2013年9月-2017年6月,,,沈阳工业大学电子与信息工程学院,,,学士

教学课程

机械学习

教学项目

无

主要研究偏向

新型半导体质料与器件的研究以及智能信息处理,,,主要包括第三代半导体碳化硅、氮化镓发光质料以及图像识别等等

科研项目

? 深圳市基础研究面上项目 沟槽型多Fin氧化镓肖特基势垒二极管研究,,,JCYJ20240813145617023, 加入,,,结题。 。

? 国家自然科学基金项目(面上) 常关型氧化镓基异质结场效应晶体管研究,,,62171396,,,加入,,,结题。 。

 

揭晓学术论文

? X. W. Wang?, Z. L. Sun , S. J. Lin, H. X. Bi, Z. Yang, S. B. Zhou, W. F. Yang.* Facilitating flat-band voltage shifts of 4H-SiC MOS capacitors by HfO2/SiO2 laminated stacks with multiple interfacial dipole layers. Journal of Alloys and Compounds, 2026, 1062, 187557.

? X. W. Wang?, S. B. Wei, H. H. Ke, X. F. Ye, H. J. Weng, S. Y. Wong, W. F. Yang.* Simultaneous Electric Dipoles and Flat-band Voltage Modulation in 4H-SiC MOS Capacitors through HfO2/SiO2 Interface Engineering. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 2022, 442, 136219.

? X. W. Wang?, H. X. Bi, S. B. Zhou, X. Y. He,  Z. Yang,  Y. Li, X. K. Peng, H. Long, W. F. Yang.* High-Speed and Responsivity 4H-SiC MISIM Ultraviolet Photodetector With SixN1-x Interlayer by Atomic Nitrogen Treatment. IEEE SENSORS JOURNAL, 2026, 26, 1923-1930.

? H. W. Liu,* X. W. Wang?, P. J. Niu, P. Shields, Z. Y. Zhang, X. Y. Li, C. Liu, D. X. Wang, Intrinsic Layer Zn doping Diffusion in InP/InGaAs/InP PIN Photodiode. IEEE Photonics Technology Letters, 2021, 33, 503-506.

? H. H. Ke, X. F. Ye, X. W. Wang?, Y. C. Sun, R. D. Hong, W. F. Yang.* High-Performance 8x8 4H-SiC-Based MISIM Photodetector Arrays for UV Imaging. IEEE Photonics Technology Letters, 2024, 33, 239-242.

? X. Y. Ye, H. H. Ke, S. B. Wei, H. J. Weng, X. W. Wang?, S. Y.g Wong, W. F. Yang.* A trench beside field limiting rings terminal for improved 4H-SiC junction barrier Schottky diodes: Proposal and investigation. Microelectronics Reliability, 2024, 160, 115459.

? 王鑫炜?,,,刘雄伟*,,,  高克,,,  张赞允,,,  李晓云,,,  宁通俗,,,  王笃祥,,,  牛萍娟. Nano-LED半极性面InGaN/GaN单量子阱结构极化和光谱仿真剖析[J]. 发光学报, 2021, 42, 111-117.

 

申请及授权专利

? 刘雄伟  王鑫炜 高克 牛萍娟 张赞允 王迪; ;;电注入三维GaN核壳结构Nano-LED及制作要领; ;;中国专利,,,授权号::CN110993755B.

? 杨伟锋 王鑫炜 冶晓峰 龙明滔; ;;一种含稀土栅介质层的超结SiC MOSFET及其制造要领; ;;中国专利,,,授权号::CN116314259B.

? 杨伟锋 王鑫炜 冶晓峰 龙明滔; ;;一种含稀土栅介质层的平面型SiC MOSFET及其制造要领; ;;中国专利,,,授权号::CN116072707B.

 

获奖及声誉

? 《防诈骗平台》商业妄想书专项赛预赛团队二等奖

? 《基于45nm CMOS 工艺高效能功率放大器的研究与设计》华北分赛区团队二等奖

? 《IEEE杯-面向4G/5G通讯的高能效CMOS功率放大器设计》天下大学生集成电路立异创业大赛中荣获华北分赛区三等奖

? 《适岗培训平台》商业妄想书专项赛预赛团队二等奖

 

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