仪器名称
真空磁控离子溅射镀膜仪
放置所在
继续教育学院104
认真人
黎妍文
仪器生产厂家及型号
QUORUM Q150V S Plus
仪器研究偏向
制备种种金属、、、非金属的功效性薄膜
仪器主要功效用途及参数
主要功效 ：Q150V Plus是一款高真空应用的超细腻镀膜装备，，其极限真空度为1x10-6mbar。 连系使用宽量程潘宁规和皮拉尼规，，可以溅射具有超细成膜颗粒尺寸的易氧化金属，，适用于高分辨率成像。 更低的背底负压去除了腔室中的氧氮和水汽，，阻止在溅射历程中爆发化学反映以及在镀膜历程中爆发的杂质或缺陷。 同样地，，较低的散射可获得高纯而致密的无定形碳膜。 Q150V Plus除具有Q150T Plus的所有优点外，，还可获得更细成膜颗粒尺寸和更薄的膜，，适用于超高分辨率应用（放大倍数高于200,000倍）。
焦点参数 ：
1. 真空系统 ： 5m3/hr 旋转机械泵＋70L/s 风冷涡轮分子泵（仪器内部）；；；系统极限真空度为1 x 10-6 mbar；；；溅射事情真空规模 ：镀金时真空在5x 10-3 和1 x 10-1mbar 之间；；；
2. 溅射电流 ：0-150mA 连续可调；；；接纳低电压恒流冷溅射方式；；；
3. 溅射时间 ：可预设溅射时间；；；一次真空条件下1-3600 秒连续可调；；；
4. 溅射靶材 ：标配直径57mm 圆片铬靶 1块。
测试内容及领域
一、、、常见测试类型和项目 ：
二、、、主要应用领域 ：
超高分辨率放大SEM应用
TEM载网镀碳
FIB�；；；ば圆�
侵蚀，，摩擦和磨损�；；；げ愕难蟹�
医疗设惫亓�；；；げ�
BSE 成像
EDX，，WDS，，EBSD 剖析
碳复型膜
纳米手艺，，如 ：沸石，，聚合物纳米刷
注重事项（仪器使用和样品制备）
主要操作性能 ：
1. 离子溅射 ：溅射电流可设规模宽，，至预设厚度（需选用FTM）终止或准时终止�？？缮杞ι涫奔淇�，，无需破真空，，自动内置冷却占空比。
2. 蒸镀 ：可用碳棒（可选碳绳）蒸镀碳膜；；；选用钨篮或钼舟举行金属热蒸发；；；选用标准钼舟清洁TEM光阑
3. 可视化状态指示
大而多色的LED指示灯，，使用户在一定距离就可轻松识别历程状态。指示灯可显示以下状态 ：
◆ 初始化中 ◆ 程序运行
◆ 空闲状态 ◆ 正在镀膜
◆ 程序完成 ◆ 故障�；；；刺�
程序完成后音频声音提醒
主要配件及拓展功效（选填）
仪器操作指引 ：（选填）
见操作指南文件。
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